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厂家直供 1200℃气相沉积系统

发布时间:2016年02月17日

详细说明

1200℃气相沉积系统由:NBD-O1200X开启式真空管式炉、GSL-3F气体流量计、NBD-4C真空泵三部分构成。广泛用于:真空镀膜、纳米薄膜材料制备、纳米线生长、电池材料干燥烧结等场所.该系统技术成熟、质量可靠;设备操作采用全数控触摸界面,丰富的图形界面提示,使得设备的操作异常简单、方便;设备的各项技术参数更是一目了然,设备的运行状态尽在您的掌控之中.该系统是材料实验室必备的理想设备之一

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