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无气泡真空制药胶体磨,高剪切制药胶体磨,小粒径高浓度医药胶体磨

发布时间:2024年03月29日

详细说明

无气泡真空制药胶体磨,高剪切制药胶体磨,小粒径高浓度医药胶体磨 医药级无残留胶体磨可在线,可循环,转速高,线速度大,耗时短,环保无残留。
效果:比如两种液体物料反应生成固体颗粒,通过分别通入腔体,两种物料接触时被剪切成微滴,均匀混合后反应生成的粒子大小均匀,并且粒径很小。


纳米混悬液是以表面活性剂或(和)高分子聚合物为稳定剂,将药物颗粒分
散在水中,通过自组装技术或者破碎技术制备的一种亚微胶体分散系。与其他的
纳米制剂相比,纳米混悬制剂不需要任何载体材料,仅需要少量稳定剂即可实现大量药物纳米化,具有载药量高、粒径小、比表面积大、对生物膜粘附性强、不易被清除、能够提高难溶性药物的生物利用度等优势。
纳米混悬液常用的制备方法有多种,其中,以将药物颗粒由大到小的破碎技
术(如研磨、高压均质、微射流等)zui为常用。在破碎前,一般先将药物、稳定
剂分散/溶解于水相,即对药物和稳定剂进行前处理。然而,分散过程中强烈的
搅拌、剪切作用会使一些药物、稳定剂产生大量的泡沫,且泡沫会在破碎过程(研磨、高压均质、微射流等)中增多,进而阻碍破碎过程的进行。

纳米混悬液破碎真空胶体磨通过皮带对设备进行加速的。纳米混悬液在ikn真空均质机负压条件下,经高速剪切或快速搅拌,将药物混悬于水相A,再将容器与大气连通,使体系压力恢复正常,得混悬液B。其设备采用的结构设计是立式分体结构,运行时间长,不易造成轴的偏心,容易更换,而且只要更换相应的皮带,一般的人员可以操作。


纳米混悬液破碎真空胶体磨是由锥体磨,分散机组合而成的高ke技产品。
第yi级由具有经细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无线制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下,凹槽在每级都可以改变方向。
第二级由转定子组成。分散头的设计也很好地满足不同粘度的物质以及颗粒粒径的需要。

ikn上海依肯胶体磨与国nei胶体磨部分对比分析:(更多请接洽上海依肯林工)
设备结构:国nei胶体磨设备的结构设计为三道磨碎区,一级为粗磨碎区,二级为细磨碎区,三级为超微磨碎区,沟槽是直线,同级的沟槽深度一样
上海IKN设备的设备结构为三道磨碎区,一级为粗磨碎区,二级为细磨碎区,三级为超微磨碎区,虽然都是三级结构,但是他们的设计不同理念不同,形状及齿列的结构,沟槽是曲线,上下深度不一,上深下浅,配置有金属碳化物或陶瓷涂层的锥型转子/定子,具有良好的粉碎效果,耐磨及耐腐蚀。

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