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供应第八代G5薄膜电池激光刻膜机

发布时间:12月07日

详细说明

SEF-G5:激光刻膜机

激光刻膜机的产品特点:半导体端面泵浦光纤耦合全固态激光器;膜面朝上非接触式工作台;直线电机驱动;四路同步输出;自动识别跟踪定位;自动进出料;在线监测;静态显示  

激光刻膜机的技术参数: 

型号规格:SEF-G5

有效加工幅面:1.1m×1.4m(或635mm×1245mm ) 

*大运行速度:2000mm/s 

重复定位精度:±10μm   

刻线直线度:±10μm / 1000 mm   

典型刻膜线宽:30~60μm  

三线外沿总宽度:300~500μm    

激光刻膜机的选项和配件: 

高标配,可根据需要移除不需要的部件。 

激光刻膜机的应用和市场:非晶硅薄膜太阳电池的透明导电膜(SnO2、AZO、ITO)、非晶硅膜系(a-Si、μc-Si)、背电极膜(ZnO、Al)等的激光刻膜(刻线、切割),其它薄膜电池的膜层刻膜(金属钼Mo薄膜、金属镍Ni薄膜、碲化镉CdTe薄膜)。 

  2011年7月由武汉三工光电设备制造有限公司自主研发生产的G8.5代激光刻膜机顺利通过了赛维LDK太阳能有限公司的专家团的预验收,这是全球具有完整自主知识产权的G8.5代BIPV激光刻膜机。
 三工光电的G8.5代激光刻膜机不仅是国内首台G8.5代激光刻膜机,同时也是全球首台G8.5代激光刻膜机。
    三工光电通过自主创新,研制成功的这套自动化激光刻膜机,填补了国内空白,并在总体功能和性能上都达到世界先进水平。这是激光在太阳能领域应用的典型范例,将为我国太阳能工业的发展提供重要支持。
 赛维LDK技术总监张博士称:三工光电的G8.5代激光刻膜机的各项性能指标均达到设计要求,并且就该技术给予了高度肯定。
 三工光电的G5激光刻膜机无论是技术指标还是产能效率都达到世界一流水平。而新产品G8.5代激光刻膜机是三工光为适应下一代玻璃基板的需求(8.5代)而自主研发设计、具有完整知识产权的新一代激光刻膜机,该设备具有更高的加工效率(8路光刻),更大的加工面积(适应8.5代玻璃基板,是第五代玻璃基板的四倍)。该设备的加工精度及稳定性在加工幅面大大的提升下而没有任何的损失, 
 据三工光电该项目的负责人称:下一步的目标是应用该设备进行小批量试生产,并且在试生产过程中来检验设备和调整该设备的各项性能,为稳定,大批量生产打下基础。 
公司名称:武汉三工光电设备制造有限公司

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