PECVD设备
发布时间:2021年09月22日
详细说明
产品简介:
Load-lock式Plasma CVD设备CC-200/400是小型的使用便利的可对应从研究开发到量产的设备。
产品特性:
• 27.12MHz高密度等离子制程
• SiH4系:SiO2、SiNx、SiON、a-Si、TEOS系:可对应SiO2膜
• 以CF4+O2 Plasma实现腔体清洁功能
• 可对应有机EL(OLED)的低温成膜用heater
• 使用Tray可搬送多种基板尺寸
• 通过使用真空Box实现C系列的间接连续制程(Sputter: CS-200, Evaporation: CV-200)
产品应用:
• 功率器件
• LED、LD、高速device等化合物相关
• 有机EL(OLED)开发
• 太阳电池开发
青岛泰斯迈仪器设备有限公司
联系人:张女士 女士 (商务)
电 话:0532-82021500
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